RF napájecí zdroj řady RHH
-
RF napájecí zdroj řady RHH
RF napájecí zdroj řady RHH spoléhá na vyspělou technologii RF generace, která zákazníkům poskytuje vysokofrekvenční napájecí zdroj s větším výkonem, vyšší přesností a rychlou odezvou.S fází lze nastavit, pulzně řídit, digitální ladění a další funkce.Použitelné oblasti: fotovoltaický průmysl, průmysl plochých displejů, polovodičový průmysl, chemický průmysl, laboratoř, vědecký výzkum, výroba atd.
Použitelné procesy: plazmová chemická depozice z plynné fáze (PECVD), plazmové leptání, plazmové čištění, vysokofrekvenční iontový zdroj, plazmová difúze, plazmové polymerační naprašování, reaktivní naprašování atd.